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    XPS(ESCA)の基礎と実践応用テクニックセミナー・講習会

     

    XPSの基本原理から測定、解析まで解説

    サンプリング、実例など実践に役立つ内容

    測定におけるノウハウ、コツ

     表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではありません。そのため様々な分析手法が開発されており、その中の代表がX線光電子分光法(XPS、ESCA)です。装置の発達で測定は比較的容易になってきているとはいえ、それと共に間違った理解や手順で測定、解析を行い、正しい情報が得られていないケースが増えています。

     一方で市販の書籍やセミナー等でも原理の解説を中心としたものが多いと言えます。原理の理解は重要ですが、現実には多くのXPSユーザーはXPSの開発者ではなく、利用者(アプリケーションユーザー)と言えます。したがって、求められているのは、原理は必要最低限に、それよりも、現場実務でXPSを活用するためのサンプリング、測定、解析といったテクニックやノウハウです。そして、XPS活用において必要不可欠な表面や界面の理解です。

     本講では、表面、界面の基礎から、XPSの原理の基礎はもちろん、実務活用にフォーカスした測定、解析の考え方、手順、技術的テクニック、コツやノウハウを豊富な応用事例を交えて解説します。

    受講者の声

     
    • とても丁寧な説明で基礎から応用まで幅広く教えてくださり分かりやすかったです。ありがとうございました。
    • 意外と触れられないサンプリングから説明していただき、参考になりました
    • 分析時の注意点や、解析時に必要な知識が分かってよかったです。
    • 全くXPSについて未経験でしたが、講義をとして装置原理や解析の際に生じやすい問題など理解することができました。質問にも丁寧に回答していただき、具体的な提案もいただいたので大変参考になりました。
    • 実際の測定解析(チャージアップ対策、バックグラウンド処理、ケミカルシフト)に関する詳細について教えていただき参考になりました。
    • 分析時の不具合と解決策や分析の実例、化学状態の変化がどう表れるかが学べて大変参考になりました。
    • XPS測定・解析の基本を幅広く網羅しており、実用的な応用例も示されていて、初学者だけでなく中堅レベルの人でも勉強になる点があり、有意義でした。
    • 分析に長年に渡り携わってこられた方の講演が聞け、貴重な時間となりました。今回の講演で学んだ内容について、今後の業務に取り入れていきたいと思います。
    • XPSの概要を知っている程度の知識しか持っていなかった私にとっては中々に重い部分もありましたが、全体的に丁寧な説明で分かり易かったです。
    • 初心者の私でも理解しやすい内容でした。理論は本でも勉強できますが、実践について教えていただけるところがほとんどないので、大変助かりました。

    セミナーのお申し込みはこちら 本セミナーには受講特典がございます。

    JRL主催セミナーはセミナー会社等との共催では含まれない、実施されない

     ・追加の内容、解説
     ・例題や演習等の追加
     ・講義中に実施した演習の回答に対するコメント、アドバイス
     ・お申込みがお1人でも原則として開催(中止による面倒な事務処理が不要)

    が含まれ、より詳細に深く学び、実務での活用を促進することができます。
    また、主催セミナーだけの特別受講特典も利用することが可能です。


     実施日  2024年3月19日 10:30-16:30
     2024年12月4日 10:30-16:30
     実施方式  Web配信(Zoom)
     受講料  税抜き49800円(税込み54780円)、テキスト付
     講師  ジャパン・リサーチ・ラボ 代表 博士(工学) 奥村 治樹
     備考  【ZoomによるLive配信】
     ・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
     ・お申し込みにあたり、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
     ・後日、別途受講用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
     ・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご受講ください。
     ・リアルタイムで講師へのご質問も可能です。
     ・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。



    一般的な文系ベースの概念的研修にはない 理論と納得感に基づく論理的人材育成を提供します


    主な対象
    ・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
    ・若手から中堅を中心とした担当者
    ・XPSの教育を行うリーダー、マネージャー
    など
     
    修得できること
    ・表面分析の基礎
    ・表面分析の考え方と活用法
    ・XPSの手法基礎
    ・測定、解析のコツ、ポイント
     など

      特徴

    • XPSの基本原理といった基礎から、実務活用まで解説
    • 正しいデータを得るためのサンプリング、測定のポイント
    • チャージアップなどXPS特有の課題対策の考え方、方法
    • 解析における注意点やポイント、考え方
    • 実例を交えた実務活用の解説


    主な内容

    【表面とは】
     表面はバルクとは異なり極めて特異な領域である表面を解析するために必要不可欠な、様々な製品が技術との関わりから、表面の定義、表面を決定づける要素と現象などについて解説します。

    【表面分析の分類 】
     表面分析はXPSだけではなく数多くのものがあります。表面を知る上ではそれらの表面分析手法を目的や状況に応じて使い分けなければならず、そのために知っておくべき代表的な表面分析手法の特徴等について解説します。

    【サンプルの取り扱い】
     表面分析、特に極表面分析であるXPSの活用において必須となる試料の取り扱い、さんプリンについて解説します。
      表面分析の勘所
      サンプリングの方法と注意点
      分かりにくい裏表の明示
      試料汚染(コンタミネーション)の例
    など

    【XPSの基本】
     XPSを活用するにおいて必要となる原理や特徴、装置の解説から、スペクトル、様々なスペクトルに現れるXPSに特異な現象などについて、その対応や活用について解説します。
      XPSの原理と特徴
      XPSの検出深さ
      XPS装置の基本構造
      ワイドスキャン(サーベイスキャン)
      ナロースキャン(代表的な元素)
      バックグラウンド
      エネルギー損失ピーク
      シェイクアップサテライト
      電荷移動サテライト
      金属ピークの非対称性
      サテライトピークの利用
    など

    【測定条件】
     XPSの測定条件をどのように考えて、決定していけばよいかについて、測定条件の違いによる影響の実例などを交えて解説します。
      積算回数
      パスエネルギーの影響
      ピークの重なり
    など

    【チャージアップ対策】
     XPSの宿命とも言えるチャージアップの原理、メカニズムと対処について、具体的な方法や条件、上手く補正ができない時の対処ノウハウなどについて解説します。
      チャージアップとは
      チャージアップの影響と対応
      帯電中和のメカニズム
      同軸照射型帯電中和
      チャージアップ補正条件と中和銃の設定例
      化学状態による違い
      チャージアップ補正テクニック
    など

    【解析の基本】
     解析の基本である定性、定量についてスペクトル前処理等も含めて解説します。
      バックグラウンド処理
      XPSにおける定量と感度係数
      より正確な定量値を得るために
      ピーク分離のテクニック
    など

    【化学状態解析】
     XPSの最大の特徴の一つでもある化学状態解析について、その解析原理から解析手順、注意を要する特異ケースなどについて実例を交えながら解説します。
      元素同定と化学状態の同定
      ケミカルシフト
      ポリマーの分析例
      金属の価数評価
      ケミカルシフトの注意点
    など

    【構造解析】
     通常XPSでは行われない結晶構造解析を例として、一般的に用いられるコアピーク以外のオージェ領域などを併用した高度な解析について解説します。
      Tiの結晶構造(アナターゼ&ルチル)解析
      XRDとの比較
      XPSによる光活性解析
      オージェピークの活用
      オージェパラメーターの活用
    など

    【深さ方向分析】
     通常の表面分析と共に多くの場面で用いられるXPSデプスプロファイリングについて、測定手順、条件設定から注意点と対策などについて解説します。
     【角度変化法】
       深さ方向の原理
       解析の限界と注意点
      【イオンエッチング】
       デプスプロファイルのワークフロー
       エッチングレートの決定
       条件設定のポイント
       注意すべきこと
      【測定ダメージとその抑制】
       イオンエッチングダメージ
       クラスターイオン銃
       エッチング条件
     【 HAXPES】
    など

    【イメージング】
     導入が広がっているXPSイメージング測定について、測定例を示しながらその原理や測定、解析について解説します。

    【ハイブリッド分析】
     実際の分析評価においては残念ながらXPSだけでは十分ではないことも多く、そのような場合の評価の考え方、方法として複数手法の組み合わせについて解説します。

    【その他補足】
      正体不明のピークシフト
      再汚染の影響
      参考文献等
      ちょっと便利なサイトやソフト
    など

    【解析の実例】
      【XPSによる紫外線照射PIの解析】
      【表面構造変化の解析(XPS)】
      【気相化学修飾法】

    【まとめ】と質疑

    セミナー内容の一部がHP記載と変更になる場合があります。


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