XPS（ESCA）の基礎と実践応用テクニックセミナー・講習会
XPSの基本原理から測定、解析まで解説
サンプリング、実例など実践に役立つ内容
測定におけるノウハウ、コツ
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表面、界面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面や界面が関与していないものは無いと言っても過言ではありません。そのため様々な分析手法が開発されているが、その中の代表がX線光電子分光法（XPS、ESCA）です。装置の発達で測定は比較的容易になってきているとはいえ、それと共に間違った理解や手順で測定、解析を行い、正しい情報が得られていないケースが増えています。
本講では、表面、界面の基礎から、XPSの原理基礎はもちろん、測定、解析の手順、技術的テクニック、コツやノウハウまで応用事例を交えて解説します。
受講者の声
- 基礎から応用まで幅広く教えてくださり、とても勉強になりました。ありがとうございました。
- 意外と触れられないサンプリングから説明していただき、参考になりました
- とても丁寧な説明で分かりやすかったです。
- 分析時の注意点や、解析時に必要な知識が分かってよかったです。
- 全くXPSについて未経験でしたが、講義をとして装置原理や解析の際に生じやすい問題など理解することができました。
- 研究に対する考え方も紹介くださったので良かった。
- 説明も分かりやすく、質問にも丁寧に回答していただき、ありがとうございました。
- 実際の測定解析(チャージアップ対策、バックグラウンド処理、ケミカルシフト)に関する詳細について教えていただき参考になりました。
- 測定の際に起きる現象をイメージし易い講義だったと思います。ありがとうございました。
- 分析時の不具合と解決策や分析の実例、化学状態の変化がどう表れるかが学べて大変参考になりました。
- xpsの業務に携わったばかりなので、基礎的な内容から丁寧にご説明いただきありがとうございました。
- XPS測定・解析の基本を幅広く網羅しており、実用的な応用例も示されていて、初学者だけでなく中堅レベルの人でも勉強になる点があり、有意義でした。
- これからXPSを業務に活用するための事前学習が目的であり、基本的な知識不足で分かりかねる部分もあったが、正確に分析を行う上での要点を知れて良かった。
- 分析に長年に渡り携わってこられた方の講演が聞け、貴重な時間となりました。今回の講演で学んだ内容について、今後の業務に取り入れていきたいと思います。
- XPSの概要を知っている程度の知識しか持っていなかった私にとっては中々に重い部分もありましたが、全体的に丁寧な説明で分かり易かったです。
- スライド枚数に対して進行のテンポが良く聞き易いと思いました。
- 大変分かりやすかったです。
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JRL主催セミナーはセミナー会社等との共催では含まれない、実施されない
・追加の内容、解説
・例題や演習等の追加
・講義中に実施した演習の回答に対するコメント、アドバイス
・お申込みがお1人でも原則として開催（中止による面倒な事務処理が不要）
が含まれ、より詳細に深く学び、実務での活用を促進することができます。
また、主催セミナーだけの特別受講特典も利用することが可能です。
| 実施日 |
2023年2月16日 10:30-16:30 |
| 実施方式 |
Web配信（Zoom) |
| 受講料 |
49,500円（税込み、テキスト付）
・受付メール送信後のキャンセルは原則不可となりますので、ご都合が悪くなった場合には代理手配等をお願いします（その場合には事前にご連絡ください）。 |
| 講師 |
ジャパン・リサーチ・ラボ 代表 博士（工学） 奥村 治樹 |
| 備考 |
【ZoomによるLive配信】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
・お申し込みにあたり、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途受講用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご受講ください。
・リアルタイムで講師へのご質問も可能です。
・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。 |
| 主な対象 |
・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
・若手から中堅を中心とした担当者
・XPSの教育を行うリーダー、マネージャー
など |
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| 修得できること |
・表面分析の基礎
・表面分析の考え方と活用法
・XPSの手法基礎
・測定、解析のコツ、ポイント
など |
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特徴
- XPSの基本原理といった基礎から、実務活用まで解説
- 正しいデータを得るためのサンプリング、測定のポイント
- チャージアップなどXPS特有の課題対策の考え方、方法
- 解析における注意点やポイント、考え方
- 実例を交えた実務活用の解説
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主な内容
| 【表面とは】 |
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表面・界面の重要性 |
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表面（薄膜）とは？ |
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XPSで分析する表面の要素 |
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XPSが対象とする表面現象 |
| 【表面分析の分類 】 |
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表面分析に用いる主な手法と選び方 |
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表面・微小部の代表的分析手法 |
| 【サンプルの取り扱い】 |
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表面分析の心構え |
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サンプリング |
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サンプリング（粉末） |
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裏表の表示 |
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汚染の例 |
| 【XPSの基本】 |
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光電子の発生 |
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XPSの原理と特徴 |
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XPSの検出深さ |
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Binding Energy の規則性 |
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XPS装置の基本構造 |
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X線源 |
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光電子アナライザー |
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ワイドスキャン（サーベイスキャン） |
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ナロースキャン（代表的な元素） |
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バックグラウンド |
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エネルギー損失ピーク |
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シェイクアップサテライト |
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電荷移動サテライト |
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金属ピークの非対称性 |
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サテライトピークの利用 |
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スピン軌道相互作用 |
| 【測定条件】 |
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より正確な定量値を得るために |
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積算回数 |
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パスエネルギーの影響 |
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ピークの重なり |
| 【チャージアップ対策】 |
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チャージアップとは |
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チャージアップの影響と対応 |
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帯電中和のメカニズム |
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電子-Arイオン同軸照射型帯電中和機構 |
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中和銃の設定例 |
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チャージアップ補正条件 |
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化学状態による違い |
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チャージアップへの工夫 |
| 【解析の基本】 |
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バックグラウンド処理 |
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XPSにおける定量 |
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感度係数 |
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相対感度係数の例 |
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より正確な定量値を得るために |
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スペクトルのピーク分離 |
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ピーク分離のテクニック |
| 【化学状態解析】 |
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元素同定 |
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化学状態の同定（Ｃ１ｓ） |
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C1sケミカルシフト |
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ポリマーの分析例 |
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金属の価数評価 |
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ケミカルシフトの注意点 |
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チタンの化学状態 |
| 【構造解析】 |
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異なる構造のTi2p |
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バレンスバンドの活用 |
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例（アナターゼ＆ルチル） |
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異なる構造のバレンスバンド |
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アナターゼ／ルチル比 |
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アナターゼ／ルチル混合比 |
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XRDとの比較 |
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XPSによる混合比解析と光活性 |
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XPSによる光活性解析 |
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価電子帯スペクトルの活用 |
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オージェピークの活用 |
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オージェパラメーターの活用 |
| 【深さ方向分析】 |
| 【角度変化法】 |
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XPSにおける分析深さ |
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角度変化測定による深さ方向分析 |
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IMFPの計算 |
| 【イオンエッチング】 |
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イオン銃の基本構造 |
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デプスプロファイルのワークフロー |
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エッチレートの決定 |
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試料の回転 |
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デプスプロファイル測定の設定のポイント |
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イオンエッチングダメージ |
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酸化膜の深さ方向分析 |
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イオンエッチングによるクロスコンタミ |
| 【測定ダメージとその抑制】 |
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ポリマーへのArイオン照射 |
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イオンエッチングダメージ |
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クラスターイオン銃 |
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エッチング条件と効果 |
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エッチング条件とスパッタレート |
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HAXPES |
| 【イメージング】 |
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Si基板上のCrパターンのマッピング |
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Atomic% Mapping |
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マッピングとパラレルイメージング |
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イメージング測定の例 |
| 【ハイブリッド分析】 |
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ハイブリッド分析 |
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XPSによる光触媒の解析 |
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XPS&ラマン |
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光活性とXPS、ラマン解析結果 |
| 【その他補足】 |
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界面で正体不明のピークシフト |
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再汚染の影響（Si基板） |
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参考文献等 |
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ちょっと便利なサイトやソフト |
| 【解析の実例】 |
| 【ＸＰＳによる紫外線照射ＰＩの解析】 |
| 【表面構造変化の解析（XPS）】 |
| 【気相化学修飾法】 |
| 【まとめ】 |
| 質疑 |
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